Krótki: Bądź na bieżąco, ponieważ przedstawimy najważniejsze cechy i wyniki rzeczywistego zastosowania analizatora gazu laserowego KF200 In-situ. Ten film pokazuje, jak technologia TDLAS umożliwia monitorowanie w czasie rzeczywistym CO, NH₃, HCl i O₂ w emisjach przemysłowych, oferując precyzyjne i niezawodne wykrywanie gazów w trudnych warunkach.
Powiązane cechy produktu:
Wykorzystuje spektroskopię absorpcyjną z użyciem tunowalnego lasera diodowego (TDLAS) do precyzyjnych pomiarów stężenia gazu.
Zawiera konstrukcję sondy z podwójną ochroną, eliminując potrzebę oczyszczania nadciśnieniowego.
Kompaktowa i wysoce niezawodna konstrukcja odpowiednia do trudnych warunków przemysłowych.
Obsługuje pomiary stężeń na poziomie makro i śladów dla wszechstronnych zastosowań.
Lasery dużej mocy bez sprzężenia światłowodowego zapewniają trwałość w warunkach dużego zapylenia.
Dostępne są liczne konfiguracje, w tym sonda in-situ, obejście i modele wielokanałowe.
Spełnia rygorystyczne normy bezpieczeństwa, w tym GB7247.1-2001 i IEC 60825-1:1993.
Szeroki zakres wykrywania gazów takich jak O₂, CO, NH₃, HCl i innych, z niskimi limitami wykrywania.
Pytania:
Jakie gazy może wykryć analizator gazu laserowego KF200?
KF200 może wykrywać gazy takie jak O₂, CO, NH₃, HCl, CO₂, CH₄, H₂O i inne, z limitami wykrywania tak niskimi jak 0,01% obj. dla O₂ i 0,1 ppm dla NH₃.
Czy KF200 nadaje się do trudnych warunków przemysłowych?
Tak, KF200 posiada konstrukcję sondy z podwójną ochroną i lasery dużej mocy bez sprzężenia światłowodowego, co czyni go idealnym do pracy w warunkach wysokiego zapylenia i trudnych warunkach przemysłowych.
Jak działa technologia TDLAS w KF200?
KF200 wykorzystuje TDLAS do skanowania specyficznego piku absorpcji gazu docelowego poprzez modulację długości fali lasera, eliminując zakłócenia tła i mierząc sygnał drugiej harmonicznej w celu precyzyjnych obliczeń stężenia.